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面具后的真自我 10月14日

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发表于 2017-10-12 00:22:14 | 显示全部楼层 |阅读模式

时间:10月14日,1pm-5pm
地点:直觉和局外人艺术中心 756 N. Milwaukee Ave. Chicago, IL 60642
费用:15元
网址:https://www.eventbrite.com/e/behind-the-mask-real-me-tickets-36559820407

作为传承芝加哥(Inherit Chicago)系列活动之一,“面具后的真自我”主要是带领大家探索美国印第安和柬埔寨的面具文化。芝加哥文化联盟与美国印第安中心丶柬埔寨国家博物馆共同举办这个为期半天的工作坊。活动中,面具制造者和表演者们将通过现场演示和自我陈述等方式分享他们的经验,让观众了解面具的意义以及它们在当代生活中的意义。

来源:侨报







  



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